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解決方案

SIC,GaN襯底缺陷檢測(cè)

發(fā)布者: 發(fā)布時(shí)間:1970-01-01 分享:

常規(guī)檢查項(xiàng)目;微管,掉落,坑,撞,粒子,刮傷

硬件:微分干涉顯微鏡組,線掃相機(jī),消色差遠(yuǎn)心鏡頭,暗場(chǎng)光源

難點(diǎn):外延片上多種類(lèi)型缺陷,需要一一識(shí)別;不同缺陷有不同的表現(xiàn),大部分缺陷類(lèi)型可以通過(guò)微分干涉顯微的方式識(shí)別,部分缺陷需要遠(yuǎn)心鏡頭+暗場(chǎng)打光識(shí)別;

方案:菲涅爾光學(xué)提供多種倍率的微分干涉顯微系統(tǒng),目前有3.5倍,5倍,7倍,10倍,20倍等多種方案,滿足絕大多數(shù)缺陷檢測(cè)需求。最高分辨率可以達(dá)到0.5um,并且能夠識(shí)別各種缺陷,有良好的表現(xiàn)形式;遠(yuǎn)心鏡頭+暗場(chǎng)打光,對(duì)于刮傷類(lèi)缺陷有非常好的識(shí)別效果;

優(yōu)勢(shì):菲涅爾光學(xué)生產(chǎn)的微分干涉系統(tǒng)經(jīng)過(guò)多方市場(chǎng)驗(yàn)證,明暗對(duì)比效果最優(yōu)。對(duì)于外延,襯底都有非常明顯的識(shí)別效果

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