掩模版缺陷檢測解決方案

發(fā)布者： 發(fā)布時間：1970-01-01 分享：

產(chǎn)品配套：

        菲涅爾1倍16K線掃遠心鏡頭，vieworks16K線掃相機，外部同軸光源或者背光

行業(yè)背景：

         國產(chǎn)半導體行業(yè)的發(fā)展，在掩模版缺陷檢查行業(yè)。愈來愈希望更多的國產(chǎn)替代，菲涅爾光學根據(jù)行業(yè)發(fā)展和應用實例。推出了5um線寬，高速缺陷檢查方案。

項目痛點：

        部分掩模版線寬，非常細密。要求成像系統(tǒng)的分辨能力出眾，并且能兼顧大視野的要求。

解決方法：

        菲涅爾光學設計的1倍16K線掃遠心鏡頭，具有亮度高（可調(diào)），視野范圍內(nèi)均勻，分辨率達到5um水準。并且成功進入知名企業(yè)設備，量產(chǎn)應用

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